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微光學(xué)元件(micro-optics)概述
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微光學(xué)元件
微
光學(xué)
(micro-optics)是未來微光電機(jī)系統(tǒng)(micro-optical-electrical-mechanical system,moems,也稱微機(jī)械系統(tǒng),micro-electrical-mechanical system)中三大(另兩大組成部分是微電子和微機(jī)械)重要組成部分之一,有時也稱光學(xué)微機(jī)械(optical mems)。
微光學(xué)元件
具有體積小、重量輕、設(shè)計(jì)靈活可實(shí)現(xiàn)陣列化和易大批量復(fù)制等優(yōu)點(diǎn)已成功地應(yīng)用到現(xiàn)代光學(xué)的各個領(lǐng)域中,如校正
光學(xué)系統(tǒng)
的
像差
、改善光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量、減輕系統(tǒng)的重量。更為廣泛的應(yīng)用是
激光
光學(xué)領(lǐng)域,用于改變激光光束波面,實(shí)現(xiàn)光束變換,如光束的準(zhǔn)直、整形及光學(xué)交換和光學(xué)互聯(lián)等。微光學(xué)元件按照光傳播的途徑可簡單地分為兩大類:衍射光學(xué)元件(diffractive optical elements, does)和折射性光學(xué)元件(refractive optical element,roes)。衍射型微光學(xué)元件中比較常用的一種是二元光學(xué)元件(binary optical element,boes),以多臺階面形來逼近連續(xù)光學(xué)表面面形,是微光學(xué)元件中比較重要的一類。相應(yīng)的微光學(xué)元件的設(shè)計(jì)方法有衍射方法和折射傳播的
幾何光學(xué)
方法,如fresnel 波帶法、g-s 算法、遺傳算法、光線追跡等。目前比較成熟的商業(yè)化軟件如code v,zemax, oslo 等都具備微光學(xué)元件和系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)功能。
JWixY/
>fH0>W+!
微光學(xué)元件的制作方法
% i4 5
*siX:?l
微光學(xué)元件的制作方法歸納起來有兩種:
機(jī)械加工
方法和
光學(xué)加工
方法。機(jī)械加工方法主要有[1]:
光纖
拉制(drawing of fiber lenses)、超精度研磨(ultraprecision grinding)、注模(moulding)、金剛石車削(diamond turning)等。光學(xué)加工方法就是光刻(photolithography)。機(jī)械加工方法的優(yōu)點(diǎn)是工藝過程簡單,缺點(diǎn)是難于實(shí)現(xiàn)陣列型器件和大規(guī)模廉價(jià)復(fù)制,而且不易制作非旋轉(zhuǎn)對稱微光學(xué)元件,如柱面
透鏡
、任意不規(guī)則面型微光學(xué)。光學(xué)加工方法的優(yōu)點(diǎn)是:能實(shí)現(xiàn)任意不規(guī)則面型透鏡(尤其是二元微光學(xué)元件更是如此),可以大規(guī)模復(fù)制、缺點(diǎn)是工藝復(fù)雜、對環(huán)境要求較高。光學(xué)光刻可實(shí)現(xiàn)二元衍射微光學(xué)元件和連續(xù)面形微光學(xué)元件,主要有二元光學(xué)方法、掩模移動法、灰階掩模法、熱熔法和梯度折射率方法等。圖1是采用光刻方法加工8臺階二元衍射微光學(xué)元件的加工工藝原理,采用三塊不同頻率的掩模,通過三次甩膠、曝光、顯影、刻蝕等工藝實(shí)現(xiàn)95%衍射效率的微光學(xué)元件。圖2是采用掩模移動法制作連續(xù)面形微光學(xué)陣列元件,首先根據(jù)要求的面形設(shè)計(jì)掩模,然后在曝光過程中通過移動掩模,實(shí)現(xiàn)各部分的不同曝光量,最后通過顯影、反應(yīng)離子刻蝕,將光刻膠的面形傳遞到光學(xué)表面材料上。灰階掩模法是根據(jù)微光學(xué)元件所需面型,對掩模進(jìn)行灰階編碼,形成相應(yīng)的光強(qiáng)透過率分布函數(shù),通過一次曝光、顯影,即可得到相應(yīng)的光刻膠面形,最后通過刻蝕,得到光學(xué)材料上的面形,如圖3所示。熱熔法是通過曝光后光刻膠的表面張力作用的收縮,形成面形,如圖4所示。這幾種方法中,熱熔法由于面形不容易控制和難于制作不規(guī)則面形而應(yīng)用領(lǐng)域受到限制,二元衍射方法雖然能實(shí)現(xiàn)各種復(fù)雜面形而得到廣泛應(yīng)用,但受到光刻線寬
分辨率
的限制而不能制作較大數(shù)值的微光學(xué)元件;掩模移動法能制作較大數(shù)值孔徑元件但難于制作不具有中心對稱或旋轉(zhuǎn)對稱元件;译A掩模法具有設(shè)計(jì)靈活、能制作任意面形的微光學(xué)元件,但是掩模制作過程中數(shù)據(jù)量較大,難于精確地控制面形?偟恼f來,二元衍射方法適合于小數(shù)值孔徑微光學(xué)元件而連續(xù)面形方法適合于制作大數(shù)值、小口徑微光學(xué)元件。
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發(fā)表于: 2008-04-30
Another interesting field is the silicon based photonics. The researcher in this field should have the backgrounds in optics and semiconductor, and some microfabrication experience as well.
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jeremy2000
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發(fā)表于: 2009-03-13
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有完整的論述就好了
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friendhyr
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發(fā)表于: 2009-03-14
記得好像見過車燈里面用micro-optic,不過對這個東西了解不多
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jixiang8
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怒冰河
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