老司机午夜精品_国产精品高清免费在线_99热点高清无码中文字幕_在线观看国产成人AV天堂_中文字幕国产91

切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 3585閱讀
    • 2回復(fù)

    [求助]關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個(gè)問題 [復(fù)制鏈接]

    		 上一主題 下一主題
    離線oudexu
     
    發(fā)帖
    117
    光幣
    92
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2009-01-06
    請(qǐng)教大家一個(gè)問題 St3/mDtH  
    假如要降低鍍膜的沉積速度，把靶基距調(diào)大或減小靶的濺射率，它們的效果一樣嗎？比如鍍出來的膜的折射率，消光系數(shù)，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)等有什么差別嗎？ -C* UB  
    機(jī)器：離子濺射  
     
    分享到
    離線timberwolf
    發(fā)帖
    10
    光幣
    0
    光券
    0
    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2009-03-25
    當(dāng)然不一樣。膜層的附著力、應(yīng)力和均勻性都效果不同。就看你的要求了。
    離線renlgj
    發(fā)帖
    199
    光幣
    68
    光券
    0
    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 08-22
    跟著學(xué)習(xí)了