光學薄膜設計軟件
Optilayer使用實例：設計和優(yōu)化示例
>eRZ +|k?N `,Xb8^M2 參數(shù)為：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
z'T=]-
D (Hl8U 層材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
}$<^wt .hc|t-7f 設計：同Evaluation過程基本一樣，區(qū)別在于多加入了設計目標Target的輸入.打開Datebase窗口并單擊Target，輸入設計目標500-600nm范圍的減反膜：
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^DzL$BX +8 ^5C,V 單擊New，輸入目標名稱AR500-600，單擊OK.出現(xiàn)目標輸入窗口：
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):^ '/e 3;y_qwA 圖中Characteristic(s)項可以改變所要考察的參數(shù)的類型，本例中選擇RA。The number of spectral points項即為表述目標波長500-600nm范圍的AR膜所需
光譜點數(shù)，可自己根據(jù)經(jīng)驗輸入，也可由本軟件給出的經(jīng)驗公式算出（點擊？輸入?yún)?shù)即可）。
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" 單擊Next_Apply即可。
n }0z a#G 
6$;L]<$W> uC- A43utv 于上表中單擊
波長中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出現(xiàn)
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