《真空鍍膜技術(shù)》共分10章，系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術(shù)的基本慨念和基礎(chǔ)理論、各種薄膜制備技術(shù)、設(shè)備及工藝、真空卷繞鍍膜技術(shù)、ITO導(dǎo)電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹了一些近年來新出現(xiàn)的鍍膜方法與技術(shù)，如反應(yīng)磁控濺射鍍膜技術(shù)、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術(shù)等；還詳細(xì)介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術(shù)等方面的內(nèi)容。 /'SNw?&  
《真空鍍膜技術(shù)》具有很強的實用性，適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應(yīng)用、材料工程、應(yīng)用物理以及與真空鍍膜技術(shù)有關(guān)的行業(yè)從事研究、設(shè)計、設(shè)備生產(chǎn)操作與維護的技術(shù)人員，也適用與真空鍍膜技術(shù)相關(guān)的實驗研究人員和學(xué)生，還可用作大專院校相關(guān)專業(yè)師生的教材及參考書。 $t+,Tav  

圖片:zkong.jpg

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1 薄膜與表面技術(shù)基礎(chǔ)理論 KYm0@O>;  
1．1 概述 2DA]i5  
1．2 固體表面介紹 }dX*[I  
1．2．1 固體材料 X0HZH?V+  
1．2．2 固體表面與界面的基本概念 b!t0w{^w  
1．2．3 固體表面與界面的區(qū)別 h4gXvPS&r  
1．3 表面晶體學(xué) : $1?i)  
1．3．1 金屬薄膜的晶體結(jié)構(gòu) G[