半導(dǎo)體光學(xué)第3版在第二版基礎(chǔ)上進(jìn)行了更新和擴(kuò)展，對(duì)紅外光-可見(jiàn)光-紫外光范圍內(nèi)的半導(dǎo)體光學(xué)作了回顧和總結(jié)，內(nèi)容包括：線性和非線性光學(xué)性質(zhì)，動(dòng)力學(xué)特性，磁光學(xué)和電光學(xué)，強(qiáng)激勵(lì)效應(yīng)，一些應(yīng)用、實(shí)驗(yàn)技術(shù)和群理論。本書(shū)的數(shù)學(xué)知識(shí)基礎(chǔ)、簡(jiǎn)單，讀者可以直觀理解實(shí)驗(yàn)結(jié)果和所用到的處理技術(shù)。本書(shū)涉及物理學(xué)、材料科學(xué)和光電子學(xué)等相關(guān)領(lǐng)域。新增（或修改）的內(nèi)容包括一些最新的進(jìn)展：空腔極化、光子結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體Bloch方程，并對(duì)大塊材料相關(guān)的章節(jié)進(jìn)行了修改和更新。