(1)vGS對iD及溝道的控制作用
"^oU&]KQJ '?Xf(6o1 ① vGS=0 的情況
fRjp(m >mj WC) U 從圖1(a)可以看出,增強型MOS管的漏極d和源極s之間有兩個背靠背的PN結(jié)。當柵——源電壓vGS=0時,即使加上漏——源電壓vDS,而且不論vDS的極性如何,總有一個PN結(jié)處于反偏狀態(tài),漏——源極間沒有導電溝道,所以這時漏極電流iD≈0。
`Y3\R# wpD}#LRfm ② vGS>0 的情況
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_< |j4p 若vGS>0,則柵極和襯底之間的SiO2絕緣層中便產(chǎn)生一個電場。電場方向垂直于
半導體表面的由柵極指向襯底的電場。這個電場能排斥空穴而吸引
電子。
6a704l%#hb \olY)b[ 排斥空穴:使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥,剩下不能移動的受主離子(負離子),形成耗盡層。吸引電子:將 P型襯底中的電子(少子)被吸引到襯底表面。
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