工業(yè)
光纖激光器制造正成為石英光纖增長最快的市場(chǎng)之一。光纖
激光器展現(xiàn)出了許多優(yōu)于二極管泵浦固體激光器的性能,諸如卓越的性能、優(yōu)良的可靠性、緊湊的體積、較高的效率,以及為用戶帶來的成本節(jié)省。特別是摻鐿光纖激光器,其在連續(xù)波和脈沖工作模式下,分別實(shí)現(xiàn)了數(shù)千瓦量級(jí)的功率輸出。[1]摻鐿光纖激光器應(yīng)用的不斷增多,激發(fā)了業(yè)界對(duì)各種類型的二氧化硅光纖的開發(fā),而且每種光纖都具備獨(dú)特的屬性,以滿足特定的應(yīng)用需求。由于
玻璃的設(shè)計(jì)和
材料特性對(duì)光纖激光器的性能具有決定性的影響,因此光纖及其預(yù)制棒的制造也在不斷向前發(fā)展。
3){ /u$iH. |kB1>$ 大多數(shù)二氧化硅光纖都是通過基于改進(jìn)型化學(xué)氣相沉積(MCVD)法制作的光纖預(yù)制棒拉制而成。這種方法非常適合于制造傳輸用的無源光纖,但是不太適合于在預(yù)制棒的玻璃結(jié)構(gòu)中摻雜稀土離子,F(xiàn)有的名為溶液摻雜技術(shù)就是為解決這個(gè)問題應(yīng)運(yùn)而生的,但是仍然不能用于制造具有多層結(jié)構(gòu)、設(shè)計(jì)復(fù)雜的光纖。[2]為了彌補(bǔ)目前對(duì)光纖激光器的需求與現(xiàn)有稀土摻雜能力之間的差距,英國南安普頓大學(xué)光
電子研究中心(ORC)開發(fā)出了兩項(xiàng)新技術(shù)——現(xiàn)場(chǎng)溶液摻雜技術(shù)和化學(xué)坩堝沉積技術(shù)。 [3,4]
j,?>Q4G .BuXg<` 現(xiàn)場(chǎng)溶液摻雜技術(shù)
w)2X0ev" (&npr96f 在傳統(tǒng)的溶液摻雜方案中,一層稱為“Soot”的硅微粒首先被沉積在高純度玻璃基質(zhì)管的內(nèi)壁(見圖1)。Soot只有幾十微米厚,但是其較大的表面積使其具有了多孔結(jié)構(gòu)。這層硅微粒最終會(huì)形成光纖的纖芯。在硅微粒層沉積之后,玻璃管從制備預(yù)制棒的車床轉(zhuǎn)移到另外一個(gè)裝置上,這個(gè)裝置中包含溶有稀土離子和共摻雜離子(如鋁)的溶液。玻璃管在這個(gè)裝置中經(jīng)過一個(gè)指定的浸泡周期(一般為1個(gè)小時(shí))后,再次被轉(zhuǎn)移到車床上。接下來,硅微粒層通過高溫熔結(jié)成玻璃體。每層摻雜都必須重復(fù)這個(gè)過程,這將會(huì)降低可用預(yù)制棒的產(chǎn)量,因?yàn)檫@個(gè)過程要連續(xù)轉(zhuǎn)移玻璃管。因此,這種技術(shù)并不適用于多于3到4層的摻雜。
2^'|[*$k1@ _l<e>zj KP(RK4F 圖1:改進(jìn)型化學(xué)氣相沉積(MCVD)設(shè)備用于制備光纖預(yù)制棒,圖中正在沉積多孔硅層
7^>UUdk( 現(xiàn)場(chǎng)摻雜MCVD技術(shù)與傳統(tǒng)的溶液摻雜技術(shù)類似,但是其省去了在車床上轉(zhuǎn)移和重新安裝玻璃管這道工序,這使得整個(gè)過程更加高效、可靠,因而提高了預(yù)制棒的產(chǎn)量。這個(gè)過程首先也包括一個(gè)跟以前一樣的沉積Soot層的工序。然后,溶液通過裝配車床的尾端引入到Soot層中。一個(gè)小口徑玻璃管的一端被送到里面直到靠近Soot層,而該管的另一端與一個(gè)軟管相連,并通過一個(gè)泵輸送液體。在整個(gè)過程中,玻璃管保持在原位不動(dòng)。當(dāng)Soot層被完全浸透后,導(dǎo)流管就會(huì)被移除,溶劑蒸發(fā)后就會(huì)留下稀土離子。當(dāng)這一層被完全烘干后,摻雜的氧化粒子就會(huì)進(jìn)入玻璃。最后,玻璃管被熔融坍塌形成固體的玻璃預(yù)制棒。重復(fù)這個(gè)過程,可以實(shí)現(xiàn)多層摻雜。
RP?UKOc @zSI@Oq_ 現(xiàn)場(chǎng)摻雜技術(shù)的靈活性,能夠?qū)崿F(xiàn)具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)的摻雜稀土的預(yù)制棒的制備,這是傳統(tǒng)的溶液摻雜技術(shù)無法實(shí)現(xiàn)的。現(xiàn)場(chǎng)摻雜技術(shù)應(yīng)用的一個(gè)例子是摻鐿的雙包層光纖,它具有一個(gè)突起的內(nèi)包層環(huán)用于降低較高的數(shù)值孔徑(NA),其數(shù)值通常大于0.15,這是由于高度摻雜所引起的(見圖2)。通過現(xiàn)場(chǎng)摻雜技術(shù),可以將NA值降低到0.06,因此可以減少激光的輸出模式。
~G+o;N,V 2m7Z:b 為了保證纖芯的導(dǎo)光性,在預(yù)制棒中需要一個(gè)大口徑的內(nèi)包層,它通常包含多個(gè)沉積層。磷和鍺是在MCVD中常用的可以進(jìn)行氣相沉積的材料。然而,摻雜磷和鍺的玻璃有殘余的內(nèi)應(yīng)力,而且容易破碎。但是采用現(xiàn)場(chǎng)沉積技術(shù),多個(gè)無應(yīng)力的鋁硅酸鹽層可以被沉積形成內(nèi)包層。例如,采用現(xiàn)場(chǎng)溶液摻雜技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)直徑為400μm的摻鐿纖芯光纖,包含14層鋁硅酸鹽的內(nèi)包層(見圖2)。該光纖被拉成雙包層結(jié)構(gòu),能使摻鐿光纖激光器實(shí)現(xiàn)約達(dá)80%的光-光轉(zhuǎn)換效率。
?j6?KR@# zZ@]Kq;.s
;nW#Dn9 圖2:光纖的折射率輪廓圖和界面圖
6`Zx\bPDm 化學(xué)坩堝沉積法
n&DRh.@ Lf`LFPKb 除了現(xiàn)場(chǎng)溶液摻雜技術(shù),南安普頓大學(xué)
光電子研究中心正在開發(fā)的第二項(xiàng)技術(shù)是化學(xué)坩堝沉積技術(shù),該項(xiàng)技術(shù)用于低揮發(fā)性的摻雜材料的霧化與結(jié)合。目前開發(fā)的關(guān)注焦點(diǎn)是鑭系螯合物(lanthanide-based chelate complex),它們?cè)谑覝叵聻楣虘B(tài),在攝氏150~200℃之間會(huì)升華。目前,使用這些材料的沉積
系統(tǒng)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化,這種系統(tǒng)最初是為了制造具有低摻雜稀土離子的通信光纖而設(shè)計(jì)的。因此,目前并未見到利用此系統(tǒng)開發(fā)用于高功率激光器應(yīng)用的光纖的廣泛報(bào)道,這可能是因?yàn)槭褂猛獠肯⊥羵魉拖到y(tǒng)的存在一定的難度。
jq#uBU% 65X$k]x 在MCVD化學(xué)坩堝技術(shù)中,稀土摻雜物直接在車床上的MCVD玻璃套管的內(nèi)部加熱,非?拷练e區(qū),這增加了多功能性而且沿著套管的長度方向保持了較好的均勻性(見圖3)。 稀土和共摻雜離子放置在一個(gè)通過外部供電的電加熱坩堝上面,溫度
精度控制在1℃以內(nèi)。
yhhW4rz w