二元光學(xué)元件的研究將可能在以下方面發(fā)展 }3
~*/30V
Y -BZV |
1.亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)二元光學(xué)元件 7Fa<m] k
xV`)?hEXFh
具有亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的二元光學(xué)元件的研究(包括設(shè)計(jì)理論與制作技術(shù)) 這類(lèi)元件的特征尺寸比波長(zhǎng)還要小，其反射率、透射率、偏振特性和光譜特性等都顯示出與常規(guī)二元光學(xué)元件截然不同的特征，因而具有許多獨(dú)特的應(yīng)用潛力，如可 以作為抗反射元件、偏振元件、窄帶濾波器和相位板。研究重點(diǎn)包括：建立正確和有效的理論模型設(shè)計(jì)超精細(xì)結(jié)構(gòu)衍射元件；特殊波面變換的算法研究；發(fā)展波前工 程學(xué)，以制作逼近臨界尺寸的微小元件及開(kāi)拓亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)衍射元件的應(yīng)用，推動(dòng)微光學(xué)的發(fā)展。 wuCZz{c7
OPq 6)(Q
2.二元光學(xué)的CAD軟件包 dEf5x_TGm
~
c~ j
二元光學(xué)的CAD軟件包的開(kāi)發(fā)至今尚未找到適合于不同浮雕衍射結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單而有效的理論模型，二元光學(xué)元件的設(shè)計(jì)仍缺乏像普通光學(xué)設(shè)計(jì)程序那樣， 可以求出任意面形、傳遞函數(shù)及系統(tǒng)像差、具有友好界面的通用軟件包。但隨著通用設(shè)計(jì)工具的發(fā)展，二元光學(xué)元件有可能成為通用的標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件，而得到廣泛的 應(yīng)用，并與常規(guī)光學(xué)結(jié)合，形成一代嶄新的光學(xué)系統(tǒng)。 XkW@"pf&Fh
o}wRgG
3.微型光機(jī)電集成系統(tǒng) FbdC3G|oA
8j]QnH0 &
微型光機(jī)電集成系統(tǒng)是二元光學(xué)研究的總趨勢(shì)微光電機(jī)械系統(tǒng)微光機(jī)械微電子機(jī)械微機(jī)械 1991年，美國(guó)國(guó)家關(guān)鍵技術(shù)委員會(huì)向美國(guó)總統(tǒng)提交了《美國(guó)國(guó)家關(guān)鍵技術(shù)》報(bào)告，其中第8項(xiàng)為“微米級(jí)和納米級(jí)制造”，即微工程技術(shù)，它主要包括微電子 學(xué)、微機(jī)械學(xué)和微光學(xué)這三個(gè)相互關(guān)聯(lián)相互促進(jìn)的學(xué)科，是發(fā)展新一代計(jì)算機(jī)、先進(jìn)機(jī)器人及智能化系統(tǒng)，促進(jìn)機(jī)械、電子及儀器儀表工業(yè)實(shí)現(xiàn)集成化、微型化的核 心技術(shù)。二元光學(xué)技術(shù)則是發(fā)展微光學(xué)的重要支柱，二元光學(xué)元件有可能直接刻蝕在集成電路芯片上，并在一塊芯片上布置微光學(xué)陣列，甚至完全集成化的光電處理 單元，這將導(dǎo)致包含各種全新的超密集傳感系統(tǒng)的產(chǎn)生。
