據(jù)說，最初發(fā)現(xiàn)真空中成膜是由1850年燈泡蒸發(fā)現(xiàn)象產(chǎn)生引起。當然，那并不是以薄膜制作為目的的，而僅僅是因為真空管陰極蒸發(fā)，管壁污染生成物的發(fā)現(xiàn)。之后，在放電管研究開發(fā)方面，將如何減少蒸發(fā)現(xiàn)象作為課題來研討了。 IF uz'
燈泡發(fā)明之后不久，1857年，M.法拉弟開始了真空鍍膜的嘗試。因為這是有意圖性的進行薄膜制成，故這就是所謂最早的真空鍍膜。但是，如此的方法在實際使用上非�；〞r間，那是因為當時的真空技術(shù)非常低。隨后，1930年ブし－クスル－產(chǎn)生了，以使用油作為動作液體的擴散泵的完成為開端，實現(xiàn)了真空技術(shù)的迅猛發(fā)展。其結(jié)果是：真空鍍膜一下子成了實用技術(shù)。剛開始是實現(xiàn)了將到那時為止的防反射的透過鏡的化學手法的制作向真空鍍膜制作的轉(zhuǎn)變。由此，光學薄膜得到了很大的發(fā)展。特別是在第二次世界大戰(zhàn)中，潛水艇上用的潛望鏡等復(fù)雜性光學系統(tǒng)方面，防反射膜的優(yōu)勢直接影響著戰(zhàn)爭的結(jié)果，不容有缺點。 m(?M]CH(A
實際，防反射膜有多大功效：所說的潛望鏡是由15～25個透鏡和三棱鏡組成。為此，跟空氣接觸，反射的面就有30～50個面左右。假定設(shè)為40個面，各自使用的都是屈折率為1.52左右的玻璃的話，因為空氣與玻璃的屈折率差異因素，通過一個面反射降到96％，即通過40個面后，反射只剩下19.5％了。況且，在各個面上被反射回來的光變成迷光，會導致幻像以及擴張現(xiàn)象的發(fā)生。由此降低成像的對比度。故在各個面鍍上單層防反射膜之后，一個面上的透過率為98.7％左右。通過40個面之后，光量為59％，比先前亮了3倍多。若是利用上當時還未被實際采用上去的多層防反射膜的話，1個面的透過率為99.8％，40個面通過后，光量則為92％。戰(zhàn)后，在我國，從照相機等光學產(chǎn)業(yè)盛行開始，使用真空鍍膜的防反射膜的研究非常旺盛。特別是于1964年召開的東京奧林匹克上使用的電視彩色轉(zhuǎn)播，成了一大轉(zhuǎn)折點。為了讓使用復(fù)雜的透鏡構(gòu)成的監(jiān)控電視實現(xiàn)透過率提高以及自然色再現(xiàn)，通過可以說無視于預(yù)算程度的設(shè)備投資，實現(xiàn)了電子銃蒸發(fā)源的實用化，不知不覺中完成了多層防止反射膜。 JGJQ5zt
真空鍍膜在電氣、裝飾領(lǐng)域也被運用著，被作為新興技術(shù)的代表，進行著各種應(yīng)用研究開發(fā)，為此，隨著真空技術(shù)的進步，進而產(chǎn)生了在超高真空中的分子線鍍膜，以及與等離子相融合的技術(shù)離子鍍膜手法。另一方面：有關(guān)噴射環(huán)的放電管陰極長期噴射，管壁變臟事宜，曾一度設(shè)法要做防止此現(xiàn)象發(fā)生的研究先驅(qū)。主要是在美國進行研究的，將它作為實用技術(shù)，廣泛運用是在1960年以后的事，那之后，研究仍在激烈進展，以至于到了現(xiàn)在已成為極為重要的薄膜制成技術(shù)。且說，一直到現(xiàn)在所講的方法都是將形成膜的鍍膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)，或是通過氣體離子的動能蒸發(fā)鍍膜的物理手法，故稱之為物理鍍膜法（PH）。另外，在此基礎(chǔ)上，于原料內(nèi)合作化合物氣體，使之在反應(yīng)容器內(nèi)進行化學反應(yīng)，此薄膜制作法被稱之為化學鍍膜法（CVD）。據(jù)說，知曉CVD原理是在1930年時期，將它實際運用上的是1950年時期后半隊段，德國制作了耐磨消耗材的炭化鈦膜。到了1960年，它也成了半導體發(fā)展史上所被利用的得力薄膜制作方法�；瘜W反應(yīng)在初期主要是在大氣壓利用熱能進行的，但需要的基板溫度是1500℃左右，用途有限。后來開發(fā)研究出在減壓下進行的方法，將處理加工溫度降到860℃左右�；瘜W鍍膜法與真空的關(guān)系初期是為了預(yù)先使導入原料氣體的容器排成真空，除去不要的氣體也被利用了。減壓化學CVD可以說兩者的關(guān)系更加密切。那以后，又開發(fā)出了鍍膜待離子化學鍍膜法，鍍膜溫度被降為300℃左右，且根據(jù)膜種不同有些即使不加熱也可以制作了。最近，利用放電管以及激光等的光源來促進化學反應(yīng)的方法也在使用。
