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    [分享]在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題 [復(fù)制鏈接]

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    離線余登峰
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-11-27
    在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題，看到的共享一下。
    附件設(shè)置隱藏，需要回復(fù)后才能看到
     
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    離線zmfu77
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2011-12-16
    如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備，應(yīng)該有以下幾個原因： / |isRh|  
    1、靶的兩端污染嚴(yán)重，導(dǎo)電性能差，積累大量電荷，造成對真空腔體放電打火。 S1U[{R?,  
    2、靶表面污染或有氧化層 #@F.wV0  
    3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況 ~yJJ00%  
    4、電源滅弧性能差
    離線guangbao
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2014-03-09
    看看隱藏了什么？ 6"R'z#{OF  
    離線caiqiwen
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2014-11-06
    回復(fù)看一下附件
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2020-08-20
    隱藏的是什么
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 05-31
    反應(yīng)濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎 0[e!/*_V  
    離線xiezhizhi
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 06-01
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