反應(yīng)磁控濺射法制備Y2O3金剛石紅外減反膜摘 要：采用純釔 (Y)金屬靶,在氧 +氬反應(yīng)氣氛中進(jìn)行了 Y2O3薄膜直流反應(yīng)磁控濺射沉積。研究了工藝參數(shù)改變對(duì)薄膜的影響 ,選擇較優(yōu)的工藝在金剛石表面沉積符合光學(xué)厚度的薄膜 ,達(dá)到增透減反射效果。利用 X射線光電子能譜 (XPS)和掃描電子顯微鏡 ( SEM)研究了薄膜的組成和結(jié)構(gòu)。利用 X射線衍射儀 (GI XRD)和橢偏儀 (Elli p s ometer)研究了不同襯底溫度和熱處理溫度對(duì)氧化釔薄膜組織結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響。采用傅立葉紅外光譜儀 ( FTI R)檢測(cè)了鍍膜前后金剛石紅外透過(guò)性能。研究發(fā)現(xiàn) Y2O3薄膜能夠有效提高金剛石在 8～12μm的紅外透過(guò)性能 ,在 8μm處最大增透可達(dá) 21 . 8% ,使金剛石紅外透過(guò)率由 66 . 4%提高到 88 . 2%;在 3～5μm范圍 ,雙面鍍制了 Y2O3薄膜的金剛石平均透過(guò)率達(dá) 64 . 9%,比沒(méi)有鍍膜的金剛石在該處的平均透過(guò)率 54%高出 10 . 9%。 ^6@6BYf)  
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關(guān)鍵詞：Y2O3薄膜；反應(yīng)磁控濺射法；紅外透過(guò)率；減反射