輔助
離子束
功率密度對(duì)透明
塑料上室溫
磁控濺射沉積ITO薄膜
結(jié)構(gòu)和形貌的影響摘要：基于雙極脈沖磁控濺射復(fù)合離子束輔助沉積的新
工藝 ,在透明塑料聚碳酸酯基片上 ,常溫制備了透明導(dǎo)電的銦錫氧化物( ITO)
薄膜。重點(diǎn)研究了不同輔助離子束功率密度對(duì) ITO薄膜
晶體結(jié)構(gòu)和表面形貌的影響。結(jié)果表明:當(dāng)離子束功率密度從52 mW/ cm2逐漸增加到436 mW/ cm2
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