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    [求助]鍍膜時工件轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)速不夠會怎么樣 [復(fù)制鏈接]

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    離線lincc
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-12-21
    鍍單層MGF2的時候,工件的轉(zhuǎn)動電壓調(diào)太小了,會導(dǎo)致膜厚不均勻嗎?還是會更嚴重?求高手指點 S~vbISl  
     
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    離線12511895
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2011-12-22
    那會有的,不過要看你的轉(zhuǎn)速多少,越慢就均勻越不好,
    離線lincc
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2011-12-23
    回 12511895 的帖子
    12511895:那會有的,不過要看你的轉(zhuǎn)速多少,越慢就均勻越不好, (2011-12-22 21:37)  6luCi$bL  
    m*P~X*St  
    嗯,試了下,鍍單層MGF2還好
    離線kouyang3232
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2012-01-05
    單層氟化鎂我沒開公轉(zhuǎn)都沒問題。。。(忘了開),膜層少不會影響太大,但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點
    離線12511895
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2012-01-05
    回 kouyang3232 的帖子
    kouyang3232:單層氟化鎂我沒開公轉(zhuǎn)都沒問題。。。(忘了開),膜層少不會影響太大,但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點 (2012-01-05 19:55)  XFK$p^qu  
    woR((K] #G  
    那能噴點????