衍射 Diffraction fm]mqO 8shx7"
小孔衍射是光的“沿障礙物繞射”。TracePro可以模擬邊界衍射，也稱小孔衍射，一般發(fā)生在光線部分被邊界 ]s_,;PGU <Gn a}ALkg
擋住的地方。Tracepro建立衍射模型的方法是逼近法，它在大角或廣角是正確的。 r&+8\/{ |=:<[FU
Tracepro何時(shí)需要用到衍射 Do I need to Model Diffraction in TracePro? o|(Ivt7jk w! PguP
TracePro執(zhí)行的衍射建模能力是有限的，一般用來進(jìn)行雜散光分析，以及特殊光學(xué)儀器系統(tǒng)的傳播，在其中衍 W5cBT?V ?IG[W+ M8
射對透射有很大影響。一般地，影像質(zhì)量的衍射研究一般由光學(xué)設(shè)計(jì)軟件如OSLO來做，而且對照明系統(tǒng)衍射建 0"}qND s6QD^[
模不是必需的。如果您給雜散光分析建立衍射模型，對光學(xué)系統(tǒng)中的每個(gè)衍射孔徑定義重點(diǎn)采樣也是必要。衍射 VJbsM1y M >qVSepK3
孔徑的重點(diǎn)采樣目標(biāo)與先前規(guī)定的光學(xué)表面目標(biāo)一致。 o|`[X ' =gB8(1g 8
如何設(shè)置衍射 How do I Set Up Diffraction? eFKF9m ffMk.SqI
TracePro中衍射發(fā)生在定義了衍射屬性的表面上。在一個(gè)表面設(shè)置衍射由四個(gè)步驟完成： D8X~qt/ P Ij
1． 選擇要建立衍射模型的表面。它可以是反射鏡片或鏡頭的表面，如果沒有想設(shè)置衍射的表面，必需定義了下 Fi)(~ji: r=/$}l4
“虛擬物件（dummy object）”，并虛擬物件放在希望衍射發(fā)生的地方，然后選擇物件的一個(gè)面。 f|f)Kys%5 -zzoz x]S=
2． 在Define|apply Properties對話框中的衍射選項(xiàng)卡里選中Aperture Diffraction復(fù)選框。 rDI}X?JmX .^6yCs5~`
3． 在Raytrace Options對話框里設(shè)置衍射距離（可選），該設(shè)置讓您通過指定距離來限制模型計(jì)算�？讖窖苌� CCDU5l$$ @ qS Z=
距離是從衍射邊界的最大距離，該邊界是用戶想模擬光線計(jì)算的邊界。超過這個(gè)距離，TracePro認(rèn)為光線是 ES,T[ &O5O@3:7]
無偏離的。如果您不能確定如何用這個(gè)設(shè)置，就保持它的默認(rèn)值。 IVSOSl| U4[GA4DZ
對一個(gè)衍射表面應(yīng)用重點(diǎn)采樣 Applying Importance Sampling to a Diffracting Surface Gb!R>WY @)C.IQ~
1． 選擇一個(gè)球殼物件并關(guān)于孔徑旋轉(zhuǎn)一個(gè)小角度，如一度角。 mHe[ NkY6 [$c"}=g[+
a. 選擇球殼物件并通過Edit|Object|Rotate來打開旋轉(zhuǎn)對話框。 lT^/ 8Z<g i<(~J4} b
b. 關(guān)于x軸旋轉(zhuǎn)一個(gè)物件，并輸入一個(gè)角度。 )iX2r{ F5y&"Y_
c. 把旋轉(zhuǎn)點(diǎn)設(shè)在（0,0,0），并按下Apply。這使得球面光源產(chǎn)生的光線在觀察盒里聚于一點(diǎn) !,lk>j.V '6cXCO-_P
2． 重做光線追跡和輻照度看這個(gè)改變是如果影響出射表面的入射光。你會(huì)看到?jīng)]有光線出現(xiàn)在你的出射表面 )DB\du 6!se,SCvw
上。 or,:5Z X}wo$t
3． 給與出射表面一致的衍射表面設(shè)置一個(gè)重點(diǎn)采樣目標(biāo)，來進(jìn)行光線追跡。 [[$dPa9 \
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a. 應(yīng)用重點(diǎn)采樣給衍射表面，首先選擇衍射表面（z=0的表面），打開Apply Properties對話框，選擇重點(diǎn) =j~BAS*" RT(ejkLZm
采樣選項(xiàng)卡，然后按下Add按鈕設(shè)置如下的屬性： Ty<."dyPW m8V}E& 6
b. 單擊Apply。這些屬性定義給出射表面，作為衍射表面的重點(diǎn)目標(biāo)。 O NVhB |\>Ifv% {
4． 關(guān)閉Apply Properties對話框并打開Analysis|Raytrace Options對話框 -wa"&Q u@;e`-@
在閾值選項(xiàng)卡，設(shè)置光通量閾值為1e-50。由于重點(diǎn)采樣“迫使”一個(gè)Monte Carlo追跡（通常是隨機(jī)的）在 mF:Pplf< I_ AFHrj
特定方向上產(chǎn)生一條光線，必須選擇足夠值的閾值。結(jié)果，打在重點(diǎn)目標(biāo)上的光線光通量根據(jù)光線出現(xiàn)的概率進(jìn) t)|~8xpP 91 -[[<
行調(diào)整。 JR_%v=n~x 8Wo!NG:V5
5．重新進(jìn)行光線追跡并觀察打到目標(biāo)區(qū)域上的重點(diǎn)采樣光線。下面的輻照圖該追跡的一個(gè)可能結(jié)果。 n&l(aRoyx yp[,WZt
6．關(guān)于x軸把光源物件旋轉(zhuǎn)1個(gè)或幾度，旋轉(zhuǎn)點(diǎn)為原點(diǎn)（0,0,0）。 `^ZhxFX ^#XQ2UN
7．重新進(jìn)行光線追跡并在觀察表面上觀察更低的光通量。
