最近確定超聲波工藝條件，發(fā)現(xiàn)洗新光胚的時候能清洗干凈,半成品(2面鍍膜只鍍呢一面)也能洗干凈,但成品(2面均已鍍膜)卻很難洗干凈,主要是一些灰塵點,很難讓我理解.希望大家討論討論超聲波清洗成品的問題.我自己的見解是: }Ym~[S*x  
1.水質. (矛盾之出水質出問題,新光胚和半成品也應該洗不干凈) J<7nOB}OD  
2.鍍膜后,表面不光滑,影響超聲波清洗.(矛盾半成品沒問題) @*~cmf&FIQ  
3.洗的成品膜層中含MGF2吸水后,水中雜質進入膜層,影響清洗.(矛盾半成品沒問題) B_|jDH#RyJ  
還有成品放置(不垂直放入清洗夾具)的問題以及最后烘干室熱風的問題,但由于新光胚和半成品沒問題很讓人郁悶. +?bOGU
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請大家?guī)兔Ψ治龇治?是不是含MGF2的成品不能用超聲波清洗,現(xiàn)在上頭催的急,各位發(fā)表下看法,幫幫忙,靜侯佳音,以及各位有什么好的經(jīng)驗講講.

說起來，我們公司的鍍膜前清洗就沒有洗的順利過 '~kAsn*/  
非常郁悶~！

請問你鍍的是棱鏡還是透鏡啊兄弟？

問一下，你們有啥清洗液，都是用離子水？？？

成品還要清洗，直接手擦

MGF2不會脫落？

降低溶液濃度

你要清洗的是那一面？ ie!ik  
AR?IR？

Q]7Rqslz  
敝人最近正是研究整個鍍膜工藝，包括鍍前，鍍后清洗工藝。 Ldnw1xy  
清洗可是一門大技術阿！不是簡簡單單的用一種溶劑清洗就可以解決問題的，若要求不是很高的那舊另當別論了�。�

首先要清楚混入的雜質成分是什麼物質阿，這樣才可以對癥下藥阿。若是不清楚是什麼東西，當然不是隨便就可以洗乾淨的拉。