最近確定超聲波工藝條件，發(fā)現(xiàn)洗新光胚的時候能清洗干凈,半成品(2面鍍膜只鍍呢一面)也能洗干凈,但成品(2面均已鍍膜)卻很難洗干凈,主要是一些灰塵點,很難讓我理解.希望大家討論討論超聲波清洗成品的問題.我自己的見解是: ?`lIsd  
1.水質(zhì). (矛盾之出水質(zhì)出問題,新光胚和半成品也應(yīng)該洗不干凈) 274F+X  
2.鍍膜后,表面不光滑,影響超聲波清洗.(矛盾半成品沒問題) l*^c?lp)  
3.洗的成品膜層中含MGF2吸水后,水中雜質(zhì)進入膜層,影響清洗.(矛盾半成品沒問題) h:[%' htz  
還有成品放置(不垂直放入清洗夾具)的問題以及最后烘干室熱風(fēng)的問題,但由于新光胚和半成品沒問題很讓人郁悶. Gg$4O