本文針對極大規(guī)模集成電路制造的工業(yè)化生產(chǎn)需求，開展面向 100nm 曝光節(jié)點的高數(shù)值孔徑（NA）、深紫外（DUV）投影光刻
物鏡的
光學設計與
仿真。即綜合元件加工、檢測、
鍍膜、光學
材料、機械結(jié)構、
照明系統(tǒng)以及分辨率增強等各項技術要求和約束，完成 NA0.75，工作
波長 193nm（ArF）投影光刻物鏡的
光學設計。同時為最大限度地降低投影光刻物鏡的制造成本并確保的各項性能指標，研究投影光刻物鏡可能采取的像質(zhì)補償措施和方法。
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WTJ 0Q0U 長春光機所 博士論文
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