對于光學(xué)表面的評價，可以有兩個重要指標(biāo)：表面面形和表面粗糙度。一般地，光學(xué)表面面形通過干涉儀來測量；而粗糙度一般采用光學(xué)輪廓儀或掃描探針顯微鏡測量。我們這里主要討論粗糙度的測量問題。 U_l7CCK +  
M'DWu|dIBA  
    對于小尺寸元件來說，這些方法都是可行的。然而，對于大尺寸元件，比如口徑大于300mm或500mm甚至1m的元件，很多方法都受到了測量環(huán)境的限制。 ~\[?wN  
3?@?-q2g  
    除粗糙度要求接近0.1nm RMS的表面外，一般光學(xué)表面都采用光學(xué)輪廓儀測量。這種方法比較直接，操作簡單。但是在使用中，都要求在隔振平臺。這是由于這類儀器的原理導(dǎo)致的，雖然是近距離的測量，但是振動會對這種納米級測量帶來噪聲誤差，從而導(dǎo)致測量失敗。 +qhnP$vIe  
]rnXNn;  
    光學(xué)輪廓儀對于振動噪聲的要求，比普通干涉儀更苛刻，因為起分辨率要求在納米級。因而很難做出滿足要求的大尺寸的隔振平臺。這也限制了輪廓儀測量的元件的尺寸。因此，目前對于大尺寸的光學(xué)元件的粗糙度測量，一般無法直接測量。 yc[(lq.^n  
@UO}W_0ZD