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    [討論]關(guān)于lighttools里面BPO布點(diǎn)能否加入初始位移量 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2013-08-12
    用lighttools做個(gè)背光源,要求雙面出均勻光,布點(diǎn)時(shí)候直接用BPO布點(diǎn)了,發(fā)現(xiàn)雙面布點(diǎn)沒(méi)法加入初始位移,使得兩面點(diǎn)大小相同密度相同但錯(cuò)開(kāi)一個(gè)點(diǎn)位 q4sl=`L5Sp  
    正反兩面都用hexagonal分布圓點(diǎn),反射和透過(guò)都寫(xiě)50%,split ray,問(wèn)BPO能否在不移動(dòng)我初始布好的點(diǎn)位置情況下僅優(yōu)化點(diǎn)大? K,x$c %  
    目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點(diǎn)位置上優(yōu)化大小不希望他動(dòng)到點(diǎn)的位置,這樣怎么處理? lQh E]m>+  
    求高手 vQ:x% =]  
    另外同時(shí)優(yōu)化雙面出光斑時(shí)能不能把兩個(gè)評(píng)估函數(shù)整合到一起,優(yōu)化每一面的光板都對(duì)兩面的綜合情況進(jìn)行優(yōu)化? VFilF<