用lighttools做個(gè)背光源，要求雙面出均勻光，布點(diǎn)時(shí)候直接用BPO布點(diǎn)了，發(fā)現(xiàn)雙面布點(diǎn)沒法加入初始位移，使得兩面點(diǎn)大小相同密度相同但錯(cuò)開一個(gè)點(diǎn)位 ,|iy1yg(
正反兩面都用hexagonal分布圓點(diǎn)，反射和透過都寫50%，split ray，問BPO能否在不移動(dòng)我初始布好的點(diǎn)位置情況下僅優(yōu)化點(diǎn)大��？ }Eb] 9c\
目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點(diǎn)位置上優(yōu)化大小不希望他動(dòng)到點(diǎn)的位置，這樣怎么處理？ :p&IX"Hh
求高手 -? Tz.y&
另外同時(shí)優(yōu)化雙面出光斑時(shí)能不能把兩個(gè)評(píng)估函數(shù)整合到一起，優(yōu)化每一面的光板都對(duì)兩面的綜合情況進(jìn)行優(yōu)化？ 'f6PjI
求高手啊~
