用lighttools做個背
光源，要求雙面出均勻光，布點(diǎn)時候直接用BPO布點(diǎn)了，發(fā)現(xiàn)雙面布點(diǎn)沒法加入初始位移，使得兩面點(diǎn)大小相同密度相同但錯開一個點(diǎn)位
c[}(O H 正反兩面都用hexagonal分布圓點(diǎn)，反射和透過都寫50%，split ray，問BPO能否在不移動我初始布好的點(diǎn)位置情況下僅
優(yōu)化點(diǎn)大小？
TGuiNobD 目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點(diǎn)位置上優(yōu)化大小不希望他動到點(diǎn)的位置，這樣怎么處理？
t3Z_Dp~\ 求高手
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