LightTools8.1 正式發(fā)布了，主要有一下改進(jìn)： >fkV65w{*  
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1, 提高額外使用多核運算能力的速度， `bn@;7`X  
   以前版本的LightTools 只能在正向追跡時可以利用上電腦的所有CPU來進(jìn)行運算，在LightTools 8.1 RC版本中，反向追跡和照片級渲染同樣也可以利用多核運算來提高模擬運算速度。 [;'$y:L=g  
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2，LumViewer分析圖中添加局部分析功能， Gf9O\
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   設(shè)計者現(xiàn)在可以在正向追跡的照度或強(qiáng)度數(shù)據(jù)中完成局部分析功能，用來檢驗LumViewer模擬結(jié)果中 特定位置的能量分布。之后當(dāng)你運行一次模擬，你就可以在LumViewer圖上使用鼠標(biāo)來描繪一個矩形區(qū)域，這時你將看到有哪些光線照射到該區(qū)域中。 ="Azg8W  
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3，新掃掠實體， &XXr5ne~C  
   掃掠實體，通過拉伸或旋轉(zhuǎn)一個輪廓創(chuàng)建一個3D實體，現(xiàn)在你可以讓這個輪廓順著一個路徑進(jìn)行掃掠。你可以在視圖中定義這個路徑為折線或擬合曲線，或你定義這個路徑為輸入的線框?qū)嶓w，如SolidWorks曲線。 w^7[4u4  
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4，自由曲面實體， ^?A>)?Sq  
   除了之前版本中自由曲面，LightTools最新版本允許你創(chuàng)建一個自由曲面構(gòu)成的實體，你可以利用這個功能模擬一個自由曲面實體透鏡。和之前版本中自由曲面的形式一樣，自由曲面實體基于網(wǎng)格差值的UV點。你可以在每一個表面的屬性對話框中修改UV點來控制實體面型的大小，同樣也可以使用COM APIs。所有參數(shù)都可以用來作為優(yōu)化參數(shù)。 `>lY$EBG@[  
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5，體散射增強(qiáng)， +HD2]~{EkL  
   LightTools用戶自定義材料提供幾個途徑來定義體散射，包括磷光粉，Mie，和用戶自定義。在新版本中，將在列表中添加Henyey-Greenstein和Gegenbauer體散射微粒模式。另外，用戶自定義材料對話框已經(jīng)重新設(shè)計，簡化相應(yīng)選項；一個單一添加粒子按鈕現(xiàn)在出現(xiàn)在體散射欄，并包含5種類型的體散射模式。