摘要：提出了一種光學材料研磨亞表面損傷的非破壞性快速檢測方法�；谟簲嗔蚜W理論建立了亞表面損傷深度與表面粗糙度的關系模型。使用磁流變拋光斑點技術測量了 K9 玻璃在不同研磨條件下的亞表面損傷深度，并驗證了上述模型。最后,分析了研磨加工參數(shù)對亞表面損傷深度的影響規(guī)律,提出了高效率的研磨加工策略。研究表明:光學材料研磨后亞表面損傷深度與表面粗糙度成單調遞增的非線性關系，即 SSD~ SR4/ 3。磨粒粒度對亞表面損傷深度的影響最顯著,研磨盤硬度的影響次之， 而研磨壓力和研磨盤公轉速度的影響基本可以忽略。利用建立的亞表面損傷深度與表面粗糙度間的關系模型能夠實現(xiàn)亞表面損傷深度的快速、 準確和非破壞性檢測。 ZA&bp{} D
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關鍵詞：光學材料；研磨;磁流變拋光；光學檢驗；亞表面損傷
