高精密儀器與設(shè)備的發(fā)展進步，對我國未來科學技術(shù)的發(fā)展具有重要意義，而精密光學元件的加工，往往是生產(chǎn)此類儀器與設(shè)備的核心技術(shù)。隨著高精密儀器與設(shè)備的快速發(fā)展，光學元件面形誤差的要求也越來越嚴苛。傳統(tǒng)的面形檢測設(shè)備，如邁克爾遜干涉儀、斐索球面干涉儀，其參考波面由參考元件反射形成，檢測精度必然受制于參考元件的面形精度，很難滿足超高精度面形檢測的要求。本文研究的點衍射干涉儀檢測技術(shù)，結(jié)構(gòu)簡單，采用針-孔衍射產(chǎn)生參考波，從而擺脫了參考元件面形對檢測精度的限制，極大地減少了系統(tǒng)誤差，是超高精度檢測新的發(fā)展方向。本論文的主要工作任務(wù)是研究點衍射干涉儀檢測技術(shù)的關(guān)鍵理論與技術(shù)問題，進一步發(fā)展應(yīng)用于面形測量的點衍射干涉檢測技術(shù)。
