高精密儀器與設(shè)備的發(fā)展進(jìn)步，對(duì)我國(guó)未來科學(xué)技術(shù)的發(fā)展具有重要意義，而精密光學(xué)元件的加工，往往是生產(chǎn)此類儀器與設(shè)備的核心技術(shù)。隨著高精密儀器與設(shè)備的快速發(fā)展，光學(xué)元件面形誤差的要求也越來越嚴(yán)苛。傳統(tǒng)的面形檢測(cè)設(shè)備，如邁克爾遜干涉儀、斐索球面干涉儀，其參考波面由參考元件反射形成，檢測(cè)精度必然受制于參考元件的面形精度，很難滿足超高精度面形檢測(cè)的要求。本文研究的點(diǎn)衍射干涉儀檢測(cè)技術(shù)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，采用針-孔衍射產(chǎn)生參考波，從而擺脫了參考元件面形對(duì)檢測(cè)精度的限制，極大地減少了系統(tǒng)誤差，是超高精度檢測(cè)新的發(fā)展方向。本論文的主要工作任務(wù)是研究點(diǎn)衍射干涉儀檢測(cè)技術(shù)的關(guān)鍵理論與技術(shù)問題，進(jìn)一步發(fā)展應(yīng)用于面形測(cè)量的點(diǎn)衍射干涉檢測(cè)技術(shù)。
