本書以先進(jìn)焦平面技術(shù)為主線，在扼要概括國內(nèi)外研究歷程和技術(shù)發(fā)展趨勢的基礎(chǔ)上，著重介紹了作者近年對雙色或雙譜段紅外焦平面芯片的數(shù)值設(shè)計(jì)、硅基碲鎘汞和鋁鎵氮多層材料的生長工藝技術(shù)、碲鎘汞紅外雙色和鋁鎵氮紫外焦平面芯片加工技術(shù)、雙色焦平面多輸入級(jí)和數(shù)字傳輸讀出電路的設(shè)計(jì)技術(shù)、信號(hào)光輸出方法以及芯片級(jí)非均勻性校正、數(shù)據(jù)融合算法和實(shí)現(xiàn)方法的最新研究結(jié)果。 H1 ./x6Hr
本書適合從事紅外、紫外光電探測器以及系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)，數(shù)據(jù)處理、融合技術(shù)的科研人員、大專院校研究生，作為深入了解本領(lǐng)域的專業(yè)基礎(chǔ)內(nèi)容、技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢的閱讀參考。
