真空熱蒸發(fā)鍍膜故障的排除 pS)/yMlVj  
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1．鍍鋁層陽(yáng)極氧化故障的排除 & Pzr)W(  
故障名稱(chēng)       成 因 及 對(duì) 策 ,O"zz7  
氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡     (1)預(yù)熔時(shí)電流過(guò)高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。 ;jpsH?3g
 
(2)蒸發(fā)電流過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低 Sc$]ar]S  
氧化層表面有流痕印跡     (1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。 W6uz G  
(2)擦拭鍍件時(shí)蘸用乙醇過(guò)多。應(yīng)減少乙醇的蘸用量。 Y-:{a1/RKo  
(3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件表面。 X9n},}bJ"  
(4)唾液噴濺到鍍件表面，使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操作者應(yīng)帶上口罩 ^<'=]?xr  
氧化層表面有灰點(diǎn)     (1)真空室底盤(pán)或室壁太臟。應(yīng)使用乙醇擦拭干凈。 k7Xa|&fQP<  
(2)夾具太臟。應(yīng)按工藝規(guī)程定期清洗夾具 OLxiY r  
氧化層表面發(fā)紅     (1)陽(yáng)極氧化電壓偏低，氧化層厚度不夠。應(yīng)將電壓提高到120V左右。 Y[ toN9,  
(2)氧化時(shí)間太短，導(dǎo)致陽(yáng)極氧化后表面發(fā)紅。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)氧化時(shí)間 /*{s1Zcb  
氧化層表面發(fā)花     (1)氧化電壓太高，氧化層部分發(fā)藍(lán)。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。 x AR9* <-  
(2)各氧化點(diǎn)的電壓或氧化時(shí)間不相同。應(yīng)使各氧化點(diǎn)的電壓和氧化時(shí)間保持一致。 o8ADAU"  
(3)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低 n8>(m,  
氧化層表面發(fā)黃     (1)氧化電壓太高，氧化層太厚。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。 q%GlS=o"  
(2)氧化時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。 dJd(m&.|N  
(3)氧化點(diǎn)太多。應(yīng)適當(dāng)減少 elm]e2)F  
氧化層表面有灰白細(xì)點(diǎn)     (1)溶液中鋁含量增加。應(yīng)更換部分溶液。 >`c-Fqk  
(2)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。 '0>w_
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(3)鍍件水洗不足，表面殘留電解液，在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細(xì) x*uQBNf=  
點(diǎn)。應(yīng)將氧化后的鍍件表面用蒸餾水洗凈電解液，然后擦干，最好是將氧化后的鍍件擦干后 -5t
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放人無(wú)水乙醇中浸1-2h，然后加溫到12．0~C保溫?cái)?shù)小時(shí) =E''$b?Em  
氧化后鍍層起泡脫落     (1)鍍件表面油a8未除凈。應(yīng)加強(qiáng)脫脂處理。 !r*Ogv[  
(2>真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。由于鋁是易氧化的金屬，又容易吸收氧， %-eags~sUC  
在低真空度下蒸發(fā)，會(huì)因吸收剩余氣體而形成茶褐色的氧化膜，導(dǎo)致反射率降低，鍍層易起泡 Fm3B8Int  
脫落。通常預(yù)熔的真空度為0．067Pa；蒸鍍裝飾性的鋁膜，蒸發(fā)時(shí)的真空度可適當(dāng)?shù)鸵恍�，�?span style="display:none"> V/}g'_E  
般和預(yù)熔的真空度相同；蒸鍍質(zhì)量要求高的鋁膜，真空度應(yīng)當(dāng)高一些，一般為(4—6．7)x10” 8