現(xiàn)在在PMMA基板上鍍AR膜，使用Leybold真空鍍膜機(jī)，電子槍蒸發(fā)方式，選用Ta2O5和SiO2作為鍍膜材料；會(huì)出現(xiàn)膜裂和脫膜現(xiàn)象，使用3M膠帶拉，膜層幾乎全部脫落；鍍膜前基板未經(jīng)清洗處理，在真空室中加熱到50℃，然后停止加熱，開(kāi)始鍍膜，鍍膜整個(gè)過(guò)程中溫度未超過(guò)50℃。 {~lVe GBp  
求大神指點(diǎn)，如何改善工藝才能解決膜裂和脫膜的問(wèn)題，非常感謝！ FK2* O  
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描述:膜裂+脫膜

圖片:膜裂.jpg

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描述:脫膜

圖片:脫膜.jpg

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不用離子源嗎？用了離子源后50度咋可能控制在50度？除非設(shè)置離子源的功率特小，要不離子源的溫升效果也很明顯呀

離子源的功率較低，所以整個(gè)鍍膜過(guò)程中溫升不明顯。

鍍膜前基板要清洗，然后退火2-3h，鍍完之后再退火2-3h。

膜層與基底結(jié)合力不夠

dumoty:鍍膜前基板要清洗，然后退火2-3h，鍍完之后再退火2-3h。 (2015-08-21 13:20)  n