1、研磨后的清洗 < 1|[=$w x6UXd~
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e 研磨是
光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和
精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過(guò)程中會(huì)有漆片。其中研磨粉的型號(hào)各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)
鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過(guò)程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止
拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗
設(shè)備大致分為兩種：
+8Lbz^# HOP*QX8C% 本部分內(nèi)容設(shè)定了隱藏，需要回復(fù)后才能看到
FCE y1^ u 綜 述 ~Gu$E qQ 8fX iadP# 目前多數(shù)光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠家都會(huì)進(jìn)行研磨后和鍍膜前兩次清洗，其中研磨后主要清洗瀝青（漆片）和研磨粉，鍍膜前主要清洗求芯油（磨邊油）、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者最大的區(qū)別在于前者對(duì)無(wú)機(jī)污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者所使用的半水基清洗劑對(duì)于無(wú)機(jī)污染物的清洗效果也較好；兩者的共同點(diǎn)是對(duì)于有機(jī)污染物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時(shí)對(duì)鏡片的安全性極高。
