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    [分享]ZEMAX光學設計軟件操作說明詳解 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-10-11
    找到一些資料 希望對大家有用! u> >t"w  
    @Gn9x(?J  
    【ZEMAX光學設計軟件操作說明詳解】 } A# C  
    6oUT+^z#  
    介紹 bJ. ((1$  
    這一章對本手冊的習慣用法和術語進行說明。ZEMAX使用的大部分習慣用法和術語與光學行業(yè)都是一致的,但是還是有一些重要的不同點。 >Ckb9A  
    活動結構 )_bXKYUX*0  
    活動結構是指當前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結構。詳見“多重結構”這一章。 TS3 00F  
    角放大率 <j,7Z>Rk\x  
    像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比,角度的測量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準。 :l9C7o  
    切跡 \D}/tz5~B  
    切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認情況下,入瞳處是照明均勻的。然而,有時入瞳需要不均勻的照明。為此,ZEMAX支持入瞳切跡,也就是入瞳振幅的變化。 $