找到一些資料 希望對大家有用!
u> >t"w @Gn9x(?J 【ZEMAX光學設計軟件操作說明詳解】
}
A#C 6oUT+^z# 介紹
bJ. ((1$ 這一章對本手冊的習慣用法和術語進行說明。ZEMAX使用的大部分習慣用法和術語與光學行業(yè)都是一致的,但是還是有一些重要的不同點。
>Ckb9A 活動結構
)_bXKYUX*0 活動結構是指當前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結構。詳見“多重結構”這一章。
TS3 00F 角放大率
<j,7Z>Rk\x 像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比,角度的測量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準。
:l9C7o 切跡
\D}/tz5~B 切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認情況下,入瞳處是照明均勻的。然而,有時入瞳需要不均勻的照明。為此,ZEMAX支持入瞳切跡,也就是入瞳振幅的變化。
$