寬波段要求達到0.5%以下剩余反射其實要求算是較高的，膜系設(shè)計有一定的難度，主要是誤差的影響會很大，對機臺的要求會更嚴格，從設(shè)計上，從工藝上如何降低誤差的影響是關(guān)鍵。

說的太高省

先做厚一點的單層（越厚越好），測分光曲線。 >Qg 9KGk'  
然后用麥克勞德或者TFC算折射率。 G.[,P~yy.  
算出來的折射率再用來做設(shè)計。 1?j['~aE  
然后自己再根據(jù)實際曲線慢慢修。 !Ey=  
Q>[Xm)jr:  
我以前做的380～800 反射率不超過0.3%。  a }m>  
設(shè)計是8層TiO2/SiO2,是一個W型的曲線。 kvo V?<!  
我的經(jīng)驗是TIO2折射率越高開口越寬，越好做。 r#;GVJR6  
但是折射率高的話，就需要用到好的離子源。 |A0)-sVZ  
光馳機或者新柯隆機應(yīng)該能做出來。 *sbZ{{]e  

用麥克勞德算了一下，用TiO2,SiO2,最后一層用Mgf2 K,'v{wSr  
400~1000 全部在0.5%以下，12層可以實現(xiàn)。 dW`!/OaQD  
這個還是用軟件算的，人工調(diào)整的話我覺得10層以內(nèi)應(yīng)該可以做到。