衡量
微透鏡光學(xué)質(zhì)量的性能
參數(shù)有很多，對(duì)于折射微透鏡有
焦距、表面粗糙度、
陣列均勻性等物理參數(shù)和點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)等光學(xué)性能參數(shù)，而對(duì)于衍射微透鏡有衍射效率這一重要參數(shù)。目前，針對(duì)微透鏡參數(shù)的測(cè)量方法有多種，如干涉法、CCD直接
成像法、哈特曼波前
傳感器測(cè)量法、刀口振動(dòng)法、莫爾法、泰伯效應(yīng)法等等，各種方法所利用的光學(xué)
原理各不相同，也各有優(yōu)缺點(diǎn)。
1"6k5wrIA Qeog$g.HI 微透鏡陣列的填充因子ρ是指單元元件的有效通光面積S_0與單元總面積S_total的比值，它決定了元件對(duì)光能的匯聚和發(fā)散能力。填充因子與元件的形狀和排列方式有關(guān)，如采用圓孔徑，傳統(tǒng)的正交排列微透鏡陣列的填充因子最大為78．5%，六邊形排列微透鏡陣列的填充因子最大為90%。而采用方形孔徑和六邊形孔徑填充方式，理論上填充因子可達(dá)到100%，但由于透鏡孔徑邊緣處面形誤差的存在使得其有效折光能力下降，填充因子會(huì)降低。面形輪廓的控制范圍越大，則加工誤差越小，填充因子就越高。
1uQf} PFw "ICs 表面粗糙度表征了微單元表面上的平整度。由于微光學(xué)元件在加工過程中包括多個(gè)工藝步驟，而且光刻膠、基片及去離子水的潔凈度的高低，或在光刻過程中都會(huì)影響元件表面的粗糙度。
: seL= iR OM?/$ 使用原子力顯微鏡測(cè)出了一組微透鏡孔徑的直徑(D)和厚度(h)，見下表。陣列樣品中隨機(jī)選取的10透鏡的直徑、厚度、焦距等參數(shù)。微透鏡焦距均勻性誤差定義為：
$8}'6, .?j8{> σ_f=(f_max-f_min)/f ̅ ×100%
/Q_\h+ ` kl9z;(6p 式中，f_max為微透鏡列陣子單元焦距最大值，f_min為最小值，f ̅為焦距平均值。
3dphS ^X $O -, :<HY 通過抽樣測(cè)量單元透鏡的浮雕深度，利用(2.7)式計(jì)算出對(duì)應(yīng)單元的焦距，由測(cè)試結(jié)果得出焦距的平均值為62.56um，均方根差為2.96um，焦距的均勻性誤差為0.4%。分析制作的微透鏡陣列的陣列均勻性小于1%。因此可認(rèn)為此微透鏡陣列均勻性很高。
c[7qnSH "c*|vE 射光學(xué)元件的衍射效率是標(biāo)志元件質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)，是直接關(guān)系到設(shè)計(jì)和制造出的元件能否在實(shí)際
光學(xué)系統(tǒng)中采用的一個(gè)至關(guān)重要的問題。因而對(duì)衍射效率進(jìn)行精確測(cè)量是非常重要的。從國內(nèi)外已經(jīng)報(bào)道的衍射效率來看，各研究小組報(bào)道的相同位相臺(tái)階數(shù)的菲涅耳微透鏡列陣其衍射效率有很大差異。這是因?yàn)楦髯运捎玫难苌湫实母髯缘亩x、測(cè)試系統(tǒng)和測(cè)試方法的不同。這些結(jié)果既不同于嚴(yán)格理論定義的衍射效率，也不能完全代表實(shí)際使用所關(guān)心的有效的能量利用率，缺乏可比性。
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