近日，一種新型的中紫外直接光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)在國內(nèi)研制成功。該設(shè)備采用特有的高均勻、高準(zhǔn)直中紫外照明技術(shù)，結(jié)合光敏玻璃材料，實(shí)現(xiàn)基于光敏玻璃基底的微細(xì)結(jié)構(gòu)直接加工，能夠極大簡化工藝流程，將有力促進(jìn)光敏玻璃微細(xì)結(jié)構(gòu)的光刻工藝技術(shù)“革命”，目前在國內(nèi)尚未見有此類產(chǎn)品成功研發(fā)的報道。 @G< J+pm  
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