大家好，最近在鍍時用
TFCalc模擬的結果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的實際
鍍膜后實際測試的折射率
參數，應該比較真實吧。
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ST.W{:X 但測試結果如下，除了透射峰的位置不準確外，透射峰基本上沒有了，為什么結果很差。我一直認為是吸收太大所致，但
模擬時采用的是真實測量的n、k值，多層膜吸收已經考慮之后進行的模擬，請大家?guī)兔Ψ治鲆幌�，非常感謝！
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