大偏離度非球面檢測畸變校正方法 =YO ]m<
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在高數(shù)值孔徑（NA）投影光刻物鏡中，隨著數(shù)值孔徑的增加，非球面的偏離度越來越大。對這種大偏離度非球面進行亞納米量級的檢測，一直是光學檢測的一大難題。本文首先對一偏離度超過500 μm的偶次高次非球面進行了計算全息圖（Computer-Generated Hologram，CGH）設計，設計出了滿足高精度面形檢測和刻蝕加工要求的CGH。然后，針對此設計方案，定量分析了CGH的成像畸變及畸變對像差分析的影響。分析結果表明，不同徑向位置的成像倍率偏差（畸變）最大達到了2.7∶1，并且由于畸變的存在，低階像差衍生出了明顯的高階像差。最后，針對用CGH檢測大偏離度非球面時出現(xiàn)的成像畸變，提出了采用光線追跡與最小二乘法相結合的成像畸變的校正方法，并通過實驗驗證了此方法的準確性。實驗結果表明，畸變校正之后相對剩余殘差小于0.2%，可以滿足高精度非球面檢測加工的要求。
