案例563（1.0） 0VPa=AW  
1.建模任務(wù) .mMM]*e[0  
Ta_#Rg*!  
 這個案例將演示設(shè)計與分析一個折射率調(diào)制的擴(kuò)散器圖層以生成Top Hat圖案。 :>|[ o&L  
 設(shè)計包括兩個步驟： a$ Z06j  
- 設(shè)計相位函數(shù)來生成一個角譜Top Hat分布。 Gd!y,n&s  
- 基于相位調(diào)制來計算對應(yīng)的折射率調(diào)制。 j s
m{|'  
 如果想要更詳細(xì)的解釋設(shè)計和分析步驟，請參見教程Tut565。 2vynz,^ET  
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照明光束參數(shù) :V&#Oo  
A," u~6Bn  
aPRF  
 波長：632.8nm 8<
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 激光光束直徑（1/e2）：700um flRok?iF  
[S4<bh!  
理想輸出場參數(shù) 0y*8;7-|r)  
KrB"2e+J  
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p~qdkA<  
 直徑：1° Zv-#v  
 分辨率：≤0.03° 3>ytpXUEGx  
 效率：>70% WOh?/F[@u  
 雜散光：<20% G22u+ua  
F.4xi+S_  
2. 設(shè)計相位函數(shù) ^)TZHc2a[  
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9BShC5  
 相位的設(shè)計請參考會話編輯器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和優(yōu)化文檔Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp 5LR k)@t  
 設(shè)計沒有離散相位級的phase-only傳輸。 {;q zz9 |  
$/K<hT_  
3.計算折射率調(diào)制 *y0TtEd;  
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L\aG.\  
r[K%8Y8`  
 最大折射率調(diào)制  (cx Q<5  
△n=+0.05 1 Qln|b8<  
 如果是GRIN層，那么厚度：12.656um 0tK(:9S  
 折射率調(diào)制假設(shè)與相位調(diào)制成正比（薄元近似）。 =A{F&:+a]  
 為得到細(xì)節(jié)請參見教程Tut565。 *jM]:GpyoU  
 優(yōu)化系統(tǒng)文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 OQ&l/|{O0?  
JD9)Qelw^$  
4.模擬結(jié)果 qx|~H'UuBN  
-e(e;e  
KSz;D+L\  
5.結(jié)論 ~7ZWtg;B  
 VirtualLab Fusion支持設(shè)計GRIN衍射光學(xué)元件和全息圖。 Qhy!:\&1  
 優(yōu)化的GRIN元件可以生成任意二維強(qiáng)度分布。 <- L}N '  
 可以模擬通過x/y平面上任意調(diào)制的介質(zhì)中的光傳播。 1R-WJph