很有用學(xué)習(xí)下

1.空心陰極離子鍍原理 }.`no  
在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2） r:rM~``  
在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發(fā)生輝光放電，在空心陰極內(nèi)產(chǎn)生低壓等離子體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時，由冷陰極放電轉(zhuǎn)為熱陰極放電，開始熱電子發(fā)射，放電轉(zhuǎn)為穩(wěn)定狀態(tài)。通入反應(yīng)氣體，可以制化合膜。 -lICoRO#  
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2.測控濺射工作原理 ",&^ f  
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先將真空室預(yù)抽至10-3Pa，然后通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產(chǎn)生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另一個電子； LTsX{z  
轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。 5D9n>K4|  
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3.多弧離子鍍工作原理 OGA_3|[S  
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其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎(chǔ)為場致發(fā)射。 P_7QZ0
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被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時，引發(fā)電極啟動器，接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形成穩(wěn)定的電弧放電，陰極表面布滿飛速游動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發(fā)源，以若干個電弧蒸發(fā)源為核心的為多弧離子鍍。 $qndG,([F  
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4.電阻蒸發(fā)式鍍膜機 jg)+]r/hS  
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