介紹了雙壓電片鏡自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)，同時(shí)為其在同步輻射光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用與進(jìn)一步發(fā)展提供前瞻性的思考與探索。根據(jù)目前已公開發(fā)表的相關(guān)文獻(xiàn)資料，總結(jié)介紹了雙壓電片鏡自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)，闡述了該技術(shù)的工作機(jī)理與關(guān)鍵參數(shù)，并對其在國際上具有代表性的同步輻射機(jī)構(gòu)中的應(yīng)用情況作出描述，并指出涉及的關(guān)鍵技術(shù)問題與未來的發(fā)展趨勢：不僅要有效地解決"連接點(diǎn)效應(yīng)"對雙壓電片鏡技術(shù)的負(fù)面影響，還要實(shí)現(xiàn)亞微米乃至納米級的聚焦光斑，這兩項(xiàng)內(nèi)容都是雙壓電片鏡技術(shù)需要進(jìn)一步解決的重要問題。未來，雙壓電片鏡自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)可望在我國先進(jìn)的第三代同步輻射裝置-"上海光源（Shanghai Synchrotron Radiation Facility，SSRF）"二期工程建設(shè)中得到應(yīng)用。
