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請(qǐng)問(wèn)鋁反射膜在鹽霧試驗(yàn)中一般可經(jīng)受多長(zhǎng)時(shí)間？ (2 回復(fù))
薄膜消光系數(shù)如何定義的,如何測(cè)量呢? (7 回復(fù))
中頻非平衡磁控濺射制備 Ti-N-C膜 (1 回復(fù))
中頻磁控濺射制備GaN薄膜 (0 回復(fù))
直流反應(yīng)磁控濺射法制備VO2薄膜 (0 回復(fù))
直流磁控濺射在鋁襯底上沉積(TixAly)N薄膜及其性能研究 (0 回復(fù))
退火對(duì)射頻磁控濺射氧化鋅薄膜性能的影響 (0 回復(fù))
鐵氧體表面無(wú)鉛焊接薄膜的磁控濺射制備研究 (0 回復(fù))
碳化硅顆粒表面磁控濺射鍍銅膜的研究 (0 回復(fù))
射頻磁控濺射法制備FC/ZnO 雜化材料及其基本性質(zhì) (0 回復(fù))
激光掃描磁控濺射Fe/Si膜直接形成α-FeSi2 (0 回復(fù))
工件臺(tái)轉(zhuǎn)速對(duì)非平衡磁控濺射沉積MoS2- Ti復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能影響 (0 回復(fù))
輔助離子束功率密度對(duì)透明塑料上室溫磁控濺射沉積ITO薄膜結(jié)構(gòu)和形貌的影響 (0 回復(fù))
非晶態(tài)碲鎘汞薄膜的射頻磁控濺射生長(zhǎng)及其結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性 (0 回復(fù))
非對(duì)稱(chēng)雙極脈沖反應(yīng)磁控濺射制備TiN/ZrN多層膜 (0 回復(fù))
反應(yīng)磁控濺射法制備Y2O3金剛石紅外減反膜 (0 回復(fù))
熱蒸鍍的物理過(guò)程 (0 回復(fù))
哪些材料截止紫外，同時(shí)透可見(jiàn)？包括有機(jī)物 (4 回復(fù))
如何測(cè)量光譜曲線的溫漂？ (3 回復(fù))
進(jìn)口光學(xué)用DLC（類(lèi)金剛石）鍍膜設(shè)備 (0 回復(fù))
繼續(xù)發(fā)薄膜論文 (39 回復(fù))
電子束蒸鍍機(jī) (5 回復(fù))
請(qǐng)問(wèn)鍍膜設(shè)備如何保養(yǎng)？ (5 回復(fù))
能不能開(kāi)一個(gè)光學(xué)鍍膜IS語(yǔ)音聊光學(xué)啊? (1 回復(fù))
溫度條件對(duì)反應(yīng)電子束淀積TiO2薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響 (32 回復(fù))
AZO的density and Z ratio (1 回復(fù))
晶振片的選擇指南 (3 回復(fù))
退火處理對(duì)等離子體顯示器中氧化鎂薄膜特性的影響 (4 回復(fù))
光學(xué)薄膜厚度網(wǎng)絡(luò)監(jiān)控系統(tǒng)應(yīng)用研究 (2 回復(fù))
雙光束鍍膜系統(tǒng)中的信號(hào)優(yōu)化處理研究 (1 回復(fù))
PVD 鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)和設(shè)備常見(jiàn)問(wèn)題解答 (23 回復(fù))
金屬?lài)婂冑Y料 GE （英文） (1 回復(fù))
Al/Cu薄膜真空擴(kuò)散連接技術(shù) (4 回復(fù))
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磁控濺射鍍膜技術(shù)最新進(jìn)展及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè) (70 回復(fù))
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幾篇關(guān)于寬光譜膜厚監(jiān)控的文章 (6 回復(fù))
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新手請(qǐng)教：關(guān)于薄膜反射率與反射光強(qiáng)，謝謝。 (1 回復(fù))
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石英晶體監(jiān)控膜厚儀的發(fā)展與應(yīng)用 (6 回復(fù))
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