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hhxxgg00

2018-05-21 10:34

光刻未來(lái)5~10年的主要方向

193nm投影光刻是未來(lái)5~10年大規(guī)模集成電路工業(yè)化生產(chǎn)的主要方法. 投影物鏡作為光刻機(jī)的核心分系統(tǒng),其光機(jī)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)的研究進(jìn)展直接影響物鏡整體性能的提升. 本文分析了當(dāng)前集成電路裝備制造業(yè)對(duì)193nm投影物鏡的需求,闡述了曝光系統(tǒng)設(shè)計(jì)、光學(xué)元件被動(dòng)支撐、位姿調(diào)節(jié)、主動(dòng)變形、元件更換和系統(tǒng)數(shù)值孔徑調(diào)節(jié)等物鏡光機(jī)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研究現(xiàn)狀,提煉了阻礙物鏡未來(lái)發(fā)展的關(guān)鍵科學(xué)技術(shù)問(wèn)題. 目前,193nm光刻物鏡尚需進(jìn)一步闡明高階熱像差的產(chǎn)生機(jī)理和校正策略,解決多自由度位姿標(biāo)定問(wèn)題,形成完備的物鏡研制方法,指導(dǎo)高成像質(zhì)量物鏡的制造。

zcp12121212	2018-05-21 10:42
了解下 {U84 _Pi

聊地哼	2018-05-30 16:49
了解光學(xué)知識(shí)阿布

shima668	2018-06-07 11:53
了解光學(xué)知識(shí)阿布

345411525	2018-06-12 14:42
謝謝樓主

yanzhiyan	2018-10-11 16:40
了解一下

cyibao

2018-10-12 17:09

提升. 本文分析了當(dāng)前集成電路裝備制造業(yè)對(duì)193nm投影物鏡的需求,闡述了曝光系統(tǒng)設(shè)計(jì)、光學(xué)元件被動(dòng)支撐、位姿調(diào)節(jié)、主動(dòng)變形、元件更換和系統(tǒng)數(shù)值孔徑調(diào)節(jié)等物鏡光機(jī)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研究現(xiàn)狀,提煉了阻礙物鏡未來(lái)發(fā)展的關(guān)鍵科學(xué)技術(shù)問(wèn)題. 目前,193nm光刻物鏡尚需進(jìn)一步闡明高階熱像差的產(chǎn)生機(jī)理和校正策略,解決多自由度位姿標(biāo)定問(wèn)題,形成完備的物鏡研制方

yangpaopao	2018-10-18 16:35
學(xué)習(xí)一下，只做過(guò)照明系統(tǒng)，投影物鏡沒(méi)做過(guò)

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