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光行天下 -> 光學薄膜設計,工藝與設備 -> 鍍完膜后發(fā)霧 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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liuwenbo1991	2018-10-17 10:21
鍍完膜后發(fā)霧基材：SI片膜料：GE+ZNS 鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝

rexchou	2018-10-19 17:15
之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到. )7`2FLG 請參考~

ouyuu	2018-10-20 20:13
我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。 CRpMpPi@} MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。 4xYW?s( 離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話， ;&K +x@ 結晶大小還是沒法改變。