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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備 -> 關(guān)于電子槍與晶控系統(tǒng)之間的關(guān)系問題 [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

qqcheng 2019-07-14 19:36

關(guān)于電子槍與晶控系統(tǒng)之間的關(guān)系問題

假定我們?cè)诰Э叵到y(tǒng)中常有設(shè)置材料輸出功率上限和速率一說，但是但實(shí)際鍍膜過程中我們會(huì)看到例如材料蒸發(fā)到一定厚度，會(huì)有鉆坑，這時(shí)要穩(wěn)定原來的速率也不知道是不是晶控系統(tǒng)受到反饋，從而自動(dòng)提高輸出功率，1.晶控系統(tǒng)的速率設(shè)置是否直接自動(dòng)時(shí)時(shí)控制電子槍輸出功率；2.那么假定電子槍時(shí)時(shí)輸出功率并不穩(wěn)定，排除電子槍方面問題是不是可以理解為晶控系統(tǒng)方面問題。
morningtech 2019-07-15 19:59
晶控儀測(cè)量速率，并且只能通過調(diào)節(jié)功率來調(diào)整速率（PID）。（調(diào)節(jié)功率來調(diào)整沉積速率，容易理解和實(shí)現(xiàn)。） )ipTm{  
而無視光斑、掃描、材料多少、真空度等工藝參數(shù)，因?yàn)榫Э貎x還沒有調(diào)整這些參數(shù)的手段和方法。 N&YQZ^o  
光斑位置，掃描頻率和幅度，材料蒸發(fā)有什么特點(diǎn)、能做多厚膜，材料減少過程中坩堝狀態(tài)會(huì)有哪些變化等等，合理設(shè)置最大功率、最大鍍膜時(shí)間等參數(shù)，保護(hù)電子槍和坩堝。這些目前都是工藝人員要掌控的參數(shù)。 O[|prk,  
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