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2020-08-24 23:33 |
用于光刻機(jī)照明均勻化的微柱面鏡陣列設(shè)計(jì)
摘要:均勻照明是投影光刻機(jī)中實(shí)現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微透鏡陣列作為照明勻光器件,能夠 在實(shí)現(xiàn)矩形照明光斑的同時(shí)獲得極高的遠(yuǎn)場分布均勻性;谖⑼哥R陣列現(xiàn)有的加工工藝,設(shè)計(jì)出二維方向分開 的柱面微透鏡陣列,并通過優(yōu)化設(shè)計(jì),克服了微透鏡之間的接縫在遠(yuǎn)場光場處產(chǎn)生的中心亮線。仿真分析表明,所 設(shè)計(jì)的微透鏡陣列的遠(yuǎn)場分布不均勻性達(dá)到0.85%。 {vf4l4J( j-}WA" 關(guān)鍵詞:幾何光學(xué);微柱面鏡陣列;光學(xué)設(shè)計(jì);照明均勻性
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