ka2012 |
2021-06-22 11:41 |
離軸非球面的條紋反射檢測(cè)技術(shù)
條紋反射測(cè)量技術(shù)具有動(dòng)態(tài)范圍大、靈敏度高的特點(diǎn),通過(guò)高精度的系統(tǒng)標(biāo)定可以獲得很高的測(cè)量精度。本文研究將條紋反射測(cè)量技術(shù)應(yīng)用于離軸非球面反射鏡粗拋光階段的面形檢測(cè),使用激光跟蹤儀建立檢測(cè)系統(tǒng)坐標(biāo)系,然后將相機(jī)和顯示屏的實(shí)測(cè)標(biāo)定數(shù)據(jù)代入坐標(biāo)系并在Zemax軟件中建立測(cè)量裝置的理想模型,通過(guò)光線追跡得到理想的屏幕像素點(diǎn)位置,采用相移技術(shù)可以得到實(shí)測(cè)時(shí)屏幕像素點(diǎn)位置,從而計(jì)算得到被測(cè)鏡面形的斜率誤差,最后積分得到檢測(cè)結(jié)果。文中采用該方法對(duì)一塊SiC離軸非球面鏡進(jìn)行了實(shí)測(cè),并與三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)的結(jié)果進(jìn)行對(duì)比,驗(yàn)證了方法的可行性,可用于指導(dǎo)離軸非球面鏡粗拋光階段的加工。
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