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infotek 2021-09-15 09:27

JCMSuite應(yīng)用—衰減相移掩模

在本示例中,模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示: c5 AaUza  
y9LO;{(  
KK6z3"tk5  
/(u? k%Q  
掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方,位于相移區(qū)域。 2i !\H$u`  
CF\wR;6k  
由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式),在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設(shè)置3DTo2D = yes標簽,以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉(zhuǎn)換。啟用此標記后,就可以描述傳入?yún)^(qū)域,就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入,光線的傳輸方向為+Z方向。 Uq{$j5p8  
=YfzB!ld  
相位分布如下圖所示: G!G:YVWXP  
Oo FMOlb.Z  
^e ;9_(  
q bCU&G|)  
相移區(qū)域的影響清晰可見,導(dǎo)致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差: ?~.:C'  
;(;~yB|NZ5  
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QQ:2987619807 ^6F, lS