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infotek 2021-09-24 10:14

光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊

請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)?LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(Pattern),我們會控制Pattern直徑的大小,來控制整個背光模塊的均勻性,是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)? M[ (mH(j  
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