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2022-11-19 18:20 |
華為EUV光刻新專利：解決相干光無(wú)法勻光問(wèn)題
據(jù)報(bào)道，華為周二公布了一項(xiàng)新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。 w,s++bV;L
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專利名稱：反射鏡、光刻裝置及其控制方法 j "^V?e5
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專利申請(qǐng)?zhí)枺篊N202110524685.X p'fD:M:
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該專利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過(guò)不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。 &Q> tV+*
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該光刻裝置包括相干光源 1、反射鏡 2 (也可以稱為去相干鏡)、照明系統(tǒng) 3。其中，反射鏡 2 可以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；例如，可以在光刻裝置中設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置，反射鏡 2 能夠在旋轉(zhuǎn)裝置的帶動(dòng)下發(fā)生旋轉(zhuǎn)。在該光刻裝置中，相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 的反射后，通過(guò)照明系統(tǒng) 3 分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版 4 上，以進(jìn)行光刻。 1Z$` }a
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在光刻裝置中，上述照明系統(tǒng) 3 作為重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明 (勻光)、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。 y$Y*%D^w
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照明系統(tǒng) 3 的勻光功能可以是通過(guò)科勒照明結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的。 qs|{
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該照明系統(tǒng) 3 包括視場(chǎng)復(fù)眼鏡 31 (field flyeye mirror，F(xiàn)FM)、光闌復(fù)眼鏡 32 (diaphragm flyeye mirror，PFM)、中繼鏡組 33；其中，中繼鏡組 33 通�？梢园▋蓚�(gè)或者兩個(gè)以上的中繼鏡。照明系統(tǒng) 3 通過(guò)視場(chǎng)復(fù)眼鏡 31 將來(lái)自相干光源 1 的光束分割成多個(gè)子光束，每個(gè)子光束再經(jīng)光闌復(fù)眼鏡 32 進(jìn)行照射方向和視場(chǎng)形狀的調(diào)整，并通過(guò)中繼鏡組 33 進(jìn)行視場(chǎng)大小和 / 或形狀調(diào)整后，投射到掩膜版 4 的照明區(qū)域。 4[
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