gangzi0801 |
2023-02-18 22:07 |
光學(xué)微透鏡陣列成像質(zhì)量預(yù)測(cè)和測(cè)量
為了研究微透鏡 陣列成像質(zhì)量的影響因素,針對(duì)慢刀伺服加工和紫外(UV)光固化工藝制備的微透鏡陣列,引入微透鏡陣列鏡片的誤差,建立基于Zemax光學(xué)軟件的光學(xué)微透鏡陣列成像仿真模型,分析透鏡單元的高度、曲率半徑、入瞳直徑等誤差對(duì)微透鏡陣列成像質(zhì)量的影響。搭建光學(xué)測(cè)試平臺(tái)對(duì)評(píng)價(jià)微透鏡陣列成像性能的光學(xué)參數(shù)進(jìn)行檢測(cè),包括各透鏡單元的焦斑大小、位置誤差及其焦距值,并利用點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(PSF)曲線的半峰全寬值對(duì)光場(chǎng)成像結(jié)果進(jìn)行成像質(zhì)量評(píng)價(jià),測(cè)量得到微透鏡陣列的焦距標(biāo)準(zhǔn)誤差為0.12 mm。將測(cè)量結(jié)果與仿真結(jié)果相比,可得PSF曲線的半峰全寬值誤差在12%左右,證明了仿真模型的準(zhǔn)確性。利用仿真和實(shí)驗(yàn)的方法建立了微透鏡陣列鏡片誤差與其光學(xué)成像質(zhì)量之間的關(guān)系,這可為基于功能實(shí)現(xiàn)的光學(xué)微透鏡陣列的超精密加工工藝提供理論基礎(chǔ)和指導(dǎo)。
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