偏振三維成像技術(shù)的原理和研究進(jìn)展
近年來(lái)偏振三維成像技術(shù)因具有精度高、作用距離遠(yuǎn)和受雜散光影響小等特點(diǎn)得以蓬勃發(fā)展，但利用目標(biāo)反射光偏振特性進(jìn)行法向量精確求解的問題一直沒有真正得到解決，成為制約該技術(shù)發(fā)展的瓶頸。此外，由于目標(biāo)表面鏡面反射光與漫反射光間的相互干擾，造成高精度偏振三維成像實(shí)現(xiàn)困難。該綜述介紹了偏振三維成像物理機(jī)理、目標(biāo)表面出射光偏振特性，以及偏振三維成像研究進(jìn)展。最后總結(jié)了目前偏振三維成像面臨的問題和未來(lái)的發(fā)展方向。 @i6D&e=
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偏振三維成像過程示意圖
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