培訓(xùn)招生 |《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》精華班即將開啟！

武漢墨光將于2024年4月17日-19日開展《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》線下培訓(xùn)精華班。本次培訓(xùn)共計3天時間，時間縮短，課程凝練，培訓(xùn)涉及【理論知識+案例實操】兩個模塊的學(xué)習(xí)，講師現(xiàn)場互動答疑，旨在讓所有學(xué)員能夠熟練掌握 ASAP 高級光學(xué)系統(tǒng)分析軟件。以下是本次培訓(xùn)的課程詳情： QM2Y?."#  
課程大綱 nT..
+J)  
E0'+]"B  
第一天： SUINV_>7  
• 光學(xué)和光線追跡的入門概念 L3JFQc/oh~  
• ASAP 簡介 XAW$"^p  
• ASAP 數(shù)據(jù)輸入 p~6/+ap  
• 單透鏡輻射計示例 t.$3?"60~  
• ASAP 數(shù)據(jù)庫概念; 實體和物體; 追跡數(shù)據(jù) "~(qp_AI  
• 幾何規(guī)范和通用幾何設(shè)置 btHN  
• 光學(xué)特性 'iA#lKG  
• 光源設(shè)置 5ppO
G_  
• 光線追跡 f.JZ[+  
• 系統(tǒng)分析與評價 oGM Ls  
• 光線分裂和接收屬性 lYmqFd~p  
• ASAP 宏語言 $m,gQV~4  
• 散射模型和重點采樣 lT#&\JQ  
• 光線路徑 px %xoY  
{e\Pd!D?|  
第二天： gKeqf-UWKJ  
散射雜散光： _BO:~x  
• 雜散光術(shù)語 7zXFQ|TP  
• 雜散光的成因和影響 u?5d%]*  
• 雜散光分析和評價方法 gyj.M`+y  
• ASAP雜散光分析流程、步驟 h[#Lg3  
• 關(guān)鍵和照明表面 zs e<b/G1G  
• 重點采樣位置和大小計算 wwrP7T+d  
• 雜散光PST計算 Zu`; S#Y  
• 光學(xué)表面粗糙、污染和微粒 3:@2gp!tq  
• 表面黑化處理 'KB\K)cD=3  
鬼像： |z\5Ik!fF]  
• 鬼像的來源 'kb5pl~U  
• ASAP膜層 ;*1bTdB5a  
• ZEMAX導(dǎo)入的鬼像分析鬼像路徑分析案例 G6(kwv4  
:Rv?>I j  
第三天： (MhC83|?  
衍射和紅外雜散光： !l|
vO(  
• 孔徑衍射 I$/*Pt];  
• 衍射光學(xué)元件的雜散光 +^ a9i5  
• 紅外系統(tǒng)雜散光特征 b&[9m\AX`  
• 紅外熱輻射 JTK>[|c9oE  
• 自發(fā)輻射雜散光 =y-L'z&r  
• 紅外冷反射 yTzP{
I  
雜散光工程： e8g"QDc